Systema opticum dynamic scanning systematis optici: 1 lens parva focalis, 1-2 lentes focales, speculum Galvo. Tota lens optica functionem expansionis fasciculi, focalisationis et deflectionis fasciculi necnon scanning efficit.
Pars expansiva est lens negativa, id est, lens parva focalis, quae expansionem fasciculi et amplificationem mobilem efficit; lens focalis ex grege lentium positivarum constat. Speculum galvo est speculum in systemate galvanometrico.
(1) Designatio lentis optimizata: Ratio optima diametri ad crassitudinem
(2) Limina damni lentis altae: >30J/cm² 10ns
(3) Tegumentum absorptionis infimae, ratio absorptionis: <20ppm
(4) Ratio crassitudinis galvanometri ad diametrum: 1:35
(5) Praecisio superficiei lentis: <= λ/5
Lens Post-Obiectiva
| Maximus Discipulus Ingressus (mm) | Diameter Opticae 1 (mm) | Diameter Opticae 2 (mm) | Diameter Opticae 3 (mm) | Campus Scrutationis (mm) | Apertura Clara Scrutatoris (mm) | Longitudo undae |
| 8 | 15 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 10.6um |
| 12 | 22 | 55 | 55 | 1600x1600 | 30 | |
| 8 | 16 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 1030-1090nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 532nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 355nm |
Speculum Reflectoris
| Descriptio Partis | Diameter (mm) | Crassitudo (mm) | Materia | Tegumentum |
| Reflector Silicii | 25.4 | 3 | Silicium | HR@10.6um,Area of Inside: 45° |
| Reflector Silicii | 30 | 4 | Silicium | HR@10.6um,Area of Inside: 45° |
| Reflector Fibrae | 25.4 | 6.35 | Silica fusa | Frequentia frequentiae ad 1030-1090nm, areae spectandi: 45° |
| Reflector Fibrae | 30 | 5 | Silica fusa | Frequentia frequentiae ad 1030-1090nm, areae spectandi: 45° |
| Reflector Fibrae | 50 | 10 | Silica fusa | Frequentia frequentiae ad 1030-1090nm, areae spectandi: 45° |
| Reflector 532 | 25.4 | 6 | Silica fusa | Frequentia frequentiae ad 515-540nm/532nm, areae amplitudinis (AOI): 45° |
| Reflector 532 | 25.4 | 6.35 | Silica fusa | Frequentia frequentiae ad 515-540nm/532nm, areae amplitudinis (AOI): 45° |
| Reflector 532 | 30 | 5 | Silica fusa | Frequentia frequentiae ad 515-540nm/532nm, areae amplitudinis (AOI): 45° |
| Reflector 532 | 50 | 10 | Silica fusa | Frequentia frequentiae ad 515-540nm/532nm, areae amplitudinis (AOI): 45° |
| Reflector 355 | 25.4 | 6 | Silica fusa | Frequentia frequentiae ad 355nm et 433nm, areae amplitudinis (AOI): 45° |
| Reflector 355 | 25.4 | 6.35 | Silica fusa | Frequentia frequentiae ad 355nm et 433nm, areae amplitudinis (AOI): 45° |
| Reflector 355 | 25.4 | 10 | Silica fusa | Frequentia frequentiae ad 355nm et 433nm, areae amplitudinis (AOI): 45° |
| Reflector 355 | 30 | 5 | Silica fusa | Frequentia frequentiae ad 355nm et 433nm, areae amplitudinis (AOI): 45° |
Speculum Galvo
| Descriptio Partis | Maximus Discipulus Ingressus (mm) | Materia | Tegumentum | Longitudo undae |
| 55mmL * 35mmW * 3.5mmT-X 62mmL * 43mmW * 3.5mmT-Y | 30 | Silicium | MMR@10.6um | 10.6um |
| 55mmL * 35mmW * 3.5mmT-X 62mmL * 43mmW * 3.5mmT-Y | 30 | Silica fusa | HR@1030-1090nm | 1030-1090nm |
| 55mmL * 35mmW * 3.5mmT-X 62mmL * 43mmW * 3.5mmT-Y | 30 | Silica fusa | HR@532nm | 532nm |
| 55mmL * 35mmW * 3.5mmT-X 62mmL * 43mmW * 3.5mmT-Y | 30 | Silica fusa | HR@355nm | 355nm |
Lens Protectiva
| Diameter (mm) | Crassitudo (mm) | Materia | Tegumentum |
| 75 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 80 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x60 | 5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x64 | 2.5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x70 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
